Otwarty dostęp

Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition

Rafal Chodun

Rafal Chodun

Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Chodun, Rafal
, 
Katarzyna Nowakowska-Langier

Katarzyna Nowakowska-Langier

National Centre for Nuclear Research (NCBJ)Otwock-Swierk, Poland
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Nowakowska-Langier, Katarzyna
 oraz 
Krzysztof Zdunek

Krzysztof Zdunek

Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Zdunek, Krzysztof
  
06 sty 2016
Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition's Cover Image
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Zacytuj
Pobierz okładkę
Data publikacji: 06 sty 2016
Zakres stron: 894 - 901
Otrzymano: 31 maj 2015
Przyjęty: 05 paź 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0116
Słowa kluczowe
© 2015 Rafal Chodun et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Nauka o materiałach, Nauka o materiałach, inne, Nanomateriały, Funkcjonalne i inteligentne materiały, Charakterystyka i właściwości materiałów
Kanał RSS czasopisma