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Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition

Rafal Chodun

Rafal Chodun

Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
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Chodun, Rafal
, 
Katarzyna Nowakowska-Langier

Katarzyna Nowakowska-Langier

National Centre for Nuclear Research (NCBJ)Otwock-Swierk, Poland
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Nowakowska-Langier, Katarzyna
 und 
Krzysztof Zdunek

Krzysztof Zdunek

Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
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Zdunek, Krzysztof
  
06. Jan. 2016
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Online veröffentlicht: 06. Jan. 2016
Seitenbereich: 894 - 901
Eingereicht: 31. Mai 2015
Akzeptiert: 05. Okt. 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0116
Schlüsselwörter
© 2015 Rafal Chodun et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien
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