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Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition

Rafal Chodun

Rafal Chodun

Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
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Chodun, Rafal
, 
Katarzyna Nowakowska-Langier

Katarzyna Nowakowska-Langier

National Centre for Nuclear Research (NCBJ)Otwock-Swierk, Poland
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Nowakowska-Langier, Katarzyna
 e 
Krzysztof Zdunek

Krzysztof Zdunek

Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
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Zdunek, Krzysztof
  
06 gen 2016
Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition's Cover Image
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Pubblicato online: 06 gen 2016
Pagine: 894 - 901
Ricevuto: 31 mag 2015
Accettato: 05 ott 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0116
Parole chiave
© 2015 Rafal Chodun et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
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