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Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition

Rafal Chodun

Rafal Chodun

Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
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Chodun, Rafal
, 
Katarzyna Nowakowska-Langier

Katarzyna Nowakowska-Langier

National Centre for Nuclear Research (NCBJ)Otwock-Swierk, Poland
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Nowakowska-Langier, Katarzyna
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Krzysztof Zdunek

Krzysztof Zdunek

Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
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Zdunek, Krzysztof
  
06 ene 2016
Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition's Cover Image
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Publicado en línea: 06 ene 2016
Páginas: 894 - 901
Recibido: 31 may 2015
Aceptado: 05 oct 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0116
Palabras clave
© 2015 Rafal Chodun et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Idioma:
Inglés
Calendario de la edición:
4 veces al año
Temas de la revista:
Ciencia de los materiales, Ciencia de los materiales, otros, Nanomateriales, Materiales funcionales e inteligentes, Características y propiedades de los materiales
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