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Materials Science-Poland
Volumen 33 (2015): Edición 4 (December 2015)
Acceso abierto
Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition
Rafal Chodun
Rafal Chodun
,
Katarzyna Nowakowska-Langier
Katarzyna Nowakowska-Langier
y
Krzysztof Zdunek
Krzysztof Zdunek
| 06 ene 2016
Materials Science-Poland
Volumen 33 (2015): Edición 4 (December 2015)
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Publicado en línea:
06 ene 2016
Páginas:
894 - 901
Recibido:
31 may 2015
Aceptado:
05 oct 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0116
Palabras clave
OES
,
AlN films
,
nanocrystalline films
,
magnetron sputtering
© 2015 Rafal Chodun et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.