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Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition

Rafal Chodun

Rafal Chodun

Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
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Chodun, Rafal
, 
Katarzyna Nowakowska-Langier

Katarzyna Nowakowska-Langier

National Centre for Nuclear Research (NCBJ)Otwock-Swierk, Poland
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Nowakowska-Langier, Katarzyna
 et 
Krzysztof Zdunek

Krzysztof Zdunek

Faculty of Materials Science and Engineering, Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
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Zdunek, Krzysztof
  
06 janv. 2016
Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition's Cover Image
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Publié en ligne: 06 janv. 2016
Pages: 894 - 901
Reçu: 31 mai 2015
Accepté: 05 oct. 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0116
Mots clés
© 2015 Rafal Chodun et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Langue:
Anglais
Périodicité:
4 fois par an
Sujets de la revue:
Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux
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