Otwarty dostęp

Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions

Alexander Yoffe

Alexander Yoffe

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Yoffe, Alexander
, 
Ilya Zon

Ilya Zon

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Zon, Ilya
, 
Yishay Feldman

Yishay Feldman

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Feldman, Yishay
 oraz 
Victor Shelukhin

Victor Shelukhin

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Shelukhin, Victor
  
30 sie 2016
Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions's Cover Image
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Zacytuj
Pobierz okładkę
Data publikacji: 30 sie 2016
Zakres stron: 606 - 611
Otrzymano: 13 sty 2014
Przyjęty: 31 maj 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0088
Słowa kluczowe
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Yoffe, Alexander
Zon, Ilya
Feldman, Yishay
Shelukhin, Victor
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Nauka o materiałach, Nauka o materiałach, inne, Nanomateriały, Funkcjonalne i inteligentne materiały, Charakterystyka i właściwości materiałów
Kanał RSS czasopisma