Accesso libero

Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions

Alexander Yoffe

Alexander Yoffe

Cerca questo autore su
Sciendo|Google Scholar
Yoffe, Alexander
, 
Ilya Zon

Ilya Zon

Cerca questo autore su
Sciendo|Google Scholar
Zon, Ilya
, 
Yishay Feldman

Yishay Feldman

Cerca questo autore su
Sciendo|Google Scholar
Feldman, Yishay
 e 
Victor Shelukhin

Victor Shelukhin

Cerca questo autore su
Sciendo|Google Scholar
Shelukhin, Victor
  
30 ago 2016
Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions's Cover Image
INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO
Articolo precedente
Articolo Successivo
Cita
Scarica la copertina
Pubblicato online: 30 ago 2016
Pagine: 606 - 611
Ricevuto: 13 gen 2014
Accettato: 31 mag 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0088
Parole chiave
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Yoffe, Alexander
Zon, Ilya
Feldman, Yishay
Shelukhin, Victor
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
Feed RSS della rivista