Skip to content
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Usługi biblioteczne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Journal Matcher
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 3 (Wrzesień 2015)
Otwarty dostęp
Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions
Alexander Yoffe
Alexander Yoffe
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Yoffe, Alexander
,
Ilya Zon
Ilya Zon
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Zon, Ilya
,
Yishay Feldman
Yishay Feldman
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Feldman, Yishay
oraz
Victor Shelukhin
Victor Shelukhin
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Shelukhin, Victor
30 sie 2016
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 3 (Wrzesień 2015)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Pobierz okładkę
Data publikacji:
30 sie 2016
Zakres stron:
606 - 611
Otrzymano:
13 sty 2014
Przyjęty:
31 maj 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0088
Słowa kluczowe
carbon deposition
,
reactive plasma
,
fluoridation
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
