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Materials Science-Poland
Volume 33 (2015): Numero 3 (Settembre 2015)
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Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions
Alexander Yoffe
Alexander Yoffe
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Shelukhin, Victor
30 ago 2016
Materials Science-Poland
Volume 33 (2015): Numero 3 (Settembre 2015)
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Pubblicato online:
30 ago 2016
Pagine:
606 - 611
Ricevuto:
13 gen 2014
Accettato:
31 mag 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0088
Parole chiave
carbon deposition
,
reactive plasma
,
fluoridation
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
