Skip to content
Veröffentlichen & Verteilen
Verlagslösungen
Vertriebslösungen
Bibliotheksdienste
Themen
Allgemein
Altertumswissenschaften
Architektur und Design
Bibliotheks- und Informationswissenschaft, Buchwissenschaft
Biologie
Chemie
Geowissenschaften
Geschichte
Industrielle Chemie
Informatik
Jüdische Studien
Kulturwissenschaften
Kunst
Linguistik und Semiotik
Literaturwissenschaft
Materialwissenschaft
Mathematik
Medizin
Musik
Pharmazie
Philosophie
Physik
Rechtswissenschaften
Sozialwissenschaften
Sport und Freizeit
Technik
Theologie und Religion
Wirtschaftswissenschaften
Veröffentlichungen
Zeitschriften
Bücher
Konferenzberichte
Verlage
Journal Matcher
Blog
Kontakt
Suche
Deutsch
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Warenkorb
Home
Zeitschriften
Materials Science-Poland
Band 33 (2015): Heft 3 (September 2015)
Uneingeschränkter Zugang
Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions
Alexander Yoffe
Alexander Yoffe
Suche nach diesem Autor auf
Sciendo
|
Google Scholar
Yoffe, Alexander
,
Ilya Zon
Ilya Zon
Suche nach diesem Autor auf
Sciendo
|
Google Scholar
Zon, Ilya
,
Yishay Feldman
Yishay Feldman
Suche nach diesem Autor auf
Sciendo
|
Google Scholar
Feldman, Yishay
und
Victor Shelukhin
Victor Shelukhin
Suche nach diesem Autor auf
Sciendo
|
Google Scholar
Shelukhin, Victor
30. Aug. 2016
Materials Science-Poland
Band 33 (2015): Heft 3 (September 2015)
Über diesen Artikel
Vorheriger Artikel
Nächster Artikel
Zusammenfassung
Referenzen
Autoren
Artikel in dieser Ausgabe
Vorschau
PDF
Zitieren
Teilen
COVER HERUNTERLADEN
Online veröffentlicht:
30. Aug. 2016
Seitenbereich:
606 - 611
Eingereicht:
13. Jan. 2014
Akzeptiert:
31. Mai 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0088
Schlüsselwörter
carbon deposition
,
reactive plasma
,
fluoridation
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
