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Materials Science-Poland
Volumen 33 (2015): Edición 3 (Septiembre 2015)
Acceso abierto
Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions
Alexander Yoffe
Alexander Yoffe
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Yoffe, Alexander
,
Ilya Zon
Ilya Zon
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Victor Shelukhin
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Shelukhin, Victor
30 ago 2016
Materials Science-Poland
Volumen 33 (2015): Edición 3 (Septiembre 2015)
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Publicado en línea:
30 ago 2016
Páginas:
606 - 611
Recibido:
13 ene 2014
Aceptado:
31 may 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0088
Palabras clave
carbon deposition
,
reactive plasma
,
fluoridation
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
