Skip to content
Publier & Distribuer
Solutions d'édition
Solutions de distribution
Services de bibliothèques
Thèmes
Architecture et design
Arts
Business et économie
Chimie
Chimie industrielle
Droit
Géosciences
Histoire
Informatique
Ingénierie
Intérêt général
Linguistique et sémiotique
Littérature
Mathématiques
Musique
Médecine
Pharmacie
Philosophie
Physique
Sciences bibliothécaires et de l'information, études du livre
Sciences des matériaux
Sciences du vivant
Sciences sociales
Sport et loisirs
Théologie et religion
Études classiques et du Proche-Orient ancient
Études culturelles
Études juives
Publications
Journaux
Livres
Comptes-rendus
Éditeurs
Journal Matcher
Blog
Contact
Chercher
Français
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Panier
Home
Journaux
Materials Science-Poland
Édition 33 (2015): Edition 3 (Septembre 2015)
Accès libre
Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions
Alexander Yoffe
Alexander Yoffe
Recherchez cet auteur sur
Sciendo
|
Google Scholar
Yoffe, Alexander
,
Ilya Zon
Ilya Zon
Recherchez cet auteur sur
Sciendo
|
Google Scholar
Zon, Ilya
,
Yishay Feldman
Yishay Feldman
Recherchez cet auteur sur
Sciendo
|
Google Scholar
Feldman, Yishay
et
Victor Shelukhin
Victor Shelukhin
Recherchez cet auteur sur
Sciendo
|
Google Scholar
Shelukhin, Victor
30 août 2016
Materials Science-Poland
Édition 33 (2015): Edition 3 (Septembre 2015)
À propos de cet article
Article précédent
Article suivant
Résumé
Références
Auteurs
Articles dans cette édition
Aperçu
PDF
Citez
Partagez
Télécharger la couverture
Publié en ligne:
30 août 2016
Pages:
606 - 611
Reçu:
13 janv. 2014
Accepté:
31 mai 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0088
Mots clés
carbon deposition
,
reactive plasma
,
fluoridation
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
