Otwarty dostęp

Structure of AlN films deposited by magnetron sputtering method

K. Nowakowska-Langier

K. Nowakowska-Langier

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Nowakowska-Langier, K.
, 
R. Chodun

R. Chodun

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Chodun, R.
, 
K. Zdunek

K. Zdunek

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Zdunek, K.
, 
R. Minikayev

R. Minikayev

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Minikayev, R.
 oraz 
R. Nietubyc

R. Nietubyc

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Nietubyc, R.
  
30 sie 2016
Structure of AlN films deposited by magnetron sputtering method's Cover Image
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Zacytuj
Pobierz okładkę
Data publikacji: 30 sie 2016
Zakres stron: 639 - 643
Otrzymano: 15 sty 2015
Przyjęty: 25 kwi 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0073
Słowa kluczowe
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Nowakowska-Langier, K.
Chodun, R.
Zdunek, K.
Minikayev, R.
Nietubyc, R.
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Nauka o materiałach, Nauka o materiałach, inne, Nanomateriały, Funkcjonalne i inteligentne materiały, Charakterystyka i właściwości materiałów
Kanał RSS czasopisma