Skip to content
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Usługi biblioteczne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Journal Matcher
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 3 (Wrzesień 2015)
Otwarty dostęp
Structure of AlN films deposited by magnetron sputtering method
K. Nowakowska-Langier
K. Nowakowska-Langier
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Nowakowska-Langier, K.
,
R. Chodun
R. Chodun
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Chodun, R.
,
K. Zdunek
K. Zdunek
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Zdunek, K.
,
R. Minikayev
R. Minikayev
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Minikayev, R.
oraz
R. Nietubyc
R. Nietubyc
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Nietubyc, R.
30 sie 2016
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 3 (Wrzesień 2015)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Pobierz okładkę
Data publikacji:
30 sie 2016
Zakres stron:
639 - 643
Otrzymano:
15 sty 2015
Przyjęty:
25 kwi 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0073
Słowa kluczowe
AlN films
,
magnetron sputtering method
,
crystalline structure
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
