Accès libre

Structure of AlN films deposited by magnetron sputtering method

K. Nowakowska-Langier

K. Nowakowska-Langier

Recherchez cet auteur sur
Sciendo|Google Scholar
Nowakowska-Langier, K.
, 
R. Chodun

R. Chodun

Recherchez cet auteur sur
Sciendo|Google Scholar
Chodun, R.
, 
K. Zdunek

K. Zdunek

Recherchez cet auteur sur
Sciendo|Google Scholar
Zdunek, K.
, 
R. Minikayev

R. Minikayev

Recherchez cet auteur sur
Sciendo|Google Scholar
Minikayev, R.
 et 
R. Nietubyc

R. Nietubyc

Recherchez cet auteur sur
Sciendo|Google Scholar
Nietubyc, R.
  
30 août 2016
Structure of AlN films deposited by magnetron sputtering method's Cover Image
À propos de cet article
Article précédent
Article suivant
Citez
Télécharger la couverture
Publié en ligne: 30 août 2016
Pages: 639 - 643
Reçu: 15 janv. 2015
Accepté: 25 avr. 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0073
Mots clés
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Nowakowska-Langier, K.
Chodun, R.
Zdunek, K.
Minikayev, R.
Nietubyc, R.
Langue:
Anglais
Périodicité:
4 fois par an
Sujets de la revue:
Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux
RSS Feed de la revue