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Structure of AlN films deposited by magnetron sputtering method

K. Nowakowska-Langier

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R. Nietubyc

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Nietubyc, R.
  
30 ago 2016
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Pubblicato online: 30 ago 2016
Pagine: 639 - 643
Ricevuto: 15 gen 2015
Accettato: 25 apr 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0073
Parole chiave
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Nowakowska-Langier, K.
Chodun, R.
Zdunek, K.
Minikayev, R.
Nietubyc, R.
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
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