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Structure of AlN films deposited by magnetron sputtering method

K. Nowakowska-Langier

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Nowakowska-Langier, K.
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R. Chodun

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Nietubyc, R.
  
30. Aug. 2016
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Online veröffentlicht: 30. Aug. 2016
Seitenbereich: 639 - 643
Eingereicht: 15. Jan. 2015
Akzeptiert: 25. Apr. 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0073
Schlüsselwörter
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Nowakowska-Langier, K.
Chodun, R.
Zdunek, K.
Minikayev, R.
Nietubyc, R.
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien
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