Skip to content
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Usługi biblioteczne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Journal Matcher
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 3 (Wrzesień 2015)
Otwarty dostęp
Multifractal characteristics of titanium nitride thin films
Ştefan Ţălu
Ştefan Ţălu
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Ţălu, Ştefan
,
Sebastian Stach
Sebastian Stach
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Stach, Sebastian
,
Shahoo Valedbagi
Shahoo Valedbagi
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Valedbagi, Shahoo
,
Reza Bavadi
Reza Bavadi
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Bavadi, Reza
,
S. Mohammad Elahi
S. Mohammad Elahi
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Elahi, S. Mohammad
oraz
Mihai Ţălu
Mihai Ţălu
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Ţălu, Mihai
30 sie 2016
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 3 (Wrzesień 2015)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Pobierz okładkę
Data publikacji:
30 sie 2016
Zakres stron:
541 - 548
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0086
Słowa kluczowe
atomic force microscopy
,
DC magnetron sputtering
,
multifractal analysis
,
surface roughness
,
titanium nitride (TiN) thin film
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
