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Multifractal characteristics of titanium nitride thin films

Ţălu, Ştefan

,

Sebastian Stach

Stach, Sebastian

,

Shahoo Valedbagi

Valedbagi, Shahoo

,

,

S. Mohammad Elahi

Elahi, S. Mohammad

et

30 août 2016

$Multifractal characteristics of titanium nitride thin films's Cover Image$

Materials Science-Poland

Édition 33 (2015): Edition 3 (Septembre 2015)

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Publié en ligne: 30 août 2016

Pages: 541 - 548

DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0086

Mots clés
atomic force microscopy, DC magnetron sputtering, multifractal analysis, surface roughness, titanium nitride (TiN) thin film

© 2016

This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.

Langue:: Anglais

Périodicité:: 4 fois par an
Sujets de la revue:: Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux

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