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Multifractal characteristics of titanium nitride thin films

Ţălu, Ştefan

,

Sebastian Stach

Stach, Sebastian

,

Shahoo Valedbagi

Valedbagi, Shahoo

,

,

S. Mohammad Elahi

Elahi, S. Mohammad

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30 ago 2016

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Materials Science-Poland

Volumen 33 (2015): Edición 3 (Septiembre 2015)

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Publicado en línea: 30 ago 2016

Páginas: 541 - 548

DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0086

Palabras clave
atomic force microscopy, DC magnetron sputtering, multifractal analysis, surface roughness, titanium nitride (TiN) thin film

© 2016

This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.

Idioma:: Inglés

Calendario de la edición:: 4 veces al año
Temas de la revista:: Ciencia de los materiales, Ciencia de los materiales, otros, Nanomateriales, Materiales funcionales e inteligentes, Características y propiedades de los materiales

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