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Multifractal characteristics of titanium nitride thin films

Ţălu, Ştefan

,

Sebastian Stach

Stach, Sebastian

,

Shahoo Valedbagi

Valedbagi, Shahoo

,

,

S. Mohammad Elahi

Elahi, S. Mohammad

und

30. Aug. 2016

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Materials Science-Poland

Band 33 (2015): Heft 3 (September 2015)

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Online veröffentlicht: 30. Aug. 2016

Seitenbereich: 541 - 548

DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0086

Schlüsselwörter
atomic force microscopy, DC magnetron sputtering, multifractal analysis, surface roughness, titanium nitride (TiN) thin film

© 2016

This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.

Sprache:: Englisch

Zeitrahmen der Veröffentlichung:: 4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:: Materialwissenschaft, Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien

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