Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Acta Universitatis Sapientiae, Electrical and Mechanical Engineering
Tom 8 (2016): Zeszyt 1 (December 2016)
Otwarty dostęp
Macroscopic Thin Film Deposition Model for the Two-Reactive-Gas Sputtering Process
András Kelemen
András Kelemen
,
Domokos Biró
Domokos Biró
,
Albert-Zsombor Fekete
Albert-Zsombor Fekete
,
László Jakab-Farkas
László Jakab-Farkas
oraz
Róbert Rossi Madarász
Róbert Rossi Madarász
| 09 wrz 2017
Acta Universitatis Sapientiae, Electrical and Mechanical Engineering
Tom 8 (2016): Zeszyt 1 (December 2016)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
09 wrz 2017
Zakres stron:
62 - 78
Otrzymano:
15 lut 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/auseme-2017-0005
Słowa kluczowe
DC magnetron sputtering
,
thin film deposition
,
reactive sputtering
,
macroscopic modelling
© 2016 András Kelemen et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.