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Acta Universitatis Sapientiae, Electrical and Mechanical Engineering
Volume 8 (2016): Numero 1 (Dicembre 2016)
Accesso libero
Macroscopic Thin Film Deposition Model for the Two-Reactive-Gas Sputtering Process
András Kelemen
András Kelemen
Department of Electrical Engineering, Faculty of Technical and Human Sciences, Sapientia Hungarian University of Transylvania
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László Jakab-Farkas
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Róbert Rossi Madarász
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Madarász, Róbert Rossi
09 set 2017
Acta Universitatis Sapientiae, Electrical and Mechanical Engineering
Volume 8 (2016): Numero 1 (Dicembre 2016)
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Pubblicato online:
09 set 2017
Pagine:
62 - 78
Ricevuto:
15 feb 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/auseme-2017-0005
Parole chiave
DC magnetron sputtering
,
thin film deposition
,
reactive sputtering
,
macroscopic modelling
© 2016 András Kelemen et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
