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Acta Universitatis Sapientiae, Electrical and Mechanical Engineering
Volumen 8 (2016): Edición 1 (Diciembre 2016)
Acceso abierto
Macroscopic Thin Film Deposition Model for the Two-Reactive-Gas Sputtering Process
András Kelemen
András Kelemen
Department of Electrical Engineering, Faculty of Technical and Human Sciences, Sapientia Hungarian University of Transylvania
Tg. Mureş,
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Domokos Biró
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Albert-Zsombor Fekete
Albert-Zsombor Fekete
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László Jakab-Farkas
László Jakab-Farkas
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Jakab-Farkas, László
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Róbert Rossi Madarász
Róbert Rossi Madarász
Department of Electrical Engineering, Faculty of Technical and Human Sciences, Sapientia Hungarian University of Transylvania
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Madarász, Róbert Rossi
09 sept 2017
Acta Universitatis Sapientiae, Electrical and Mechanical Engineering
Volumen 8 (2016): Edición 1 (Diciembre 2016)
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Publicado en línea:
09 sept 2017
Páginas:
62 - 78
Recibido:
15 feb 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/auseme-2017-0005
Palabras clave
DC magnetron sputtering
,
thin film deposition
,
reactive sputtering
,
macroscopic modelling
© 2016 András Kelemen et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
