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Acta Universitatis Sapientiae, Electrical and Mechanical Engineering
Édition 8 (2016): Edition 1 (Décembre 2016)
Accès libre
Macroscopic Thin Film Deposition Model for the Two-Reactive-Gas Sputtering Process
András Kelemen
András Kelemen
Department of Electrical Engineering, Faculty of Technical and Human Sciences, Sapientia Hungarian University of Transylvania
Tg. Mureş,
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Kelemen, András
,
Domokos Biró
Domokos Biró
Department of Mechanical Engineering, Faculty of Technical and Human Sciences, Sapientia Hungarian University of Transylvania
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,
Albert-Zsombor Fekete
Albert-Zsombor Fekete
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László Jakab-Farkas
László Jakab-Farkas
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Jakab-Farkas, László
et
Róbert Rossi Madarász
Róbert Rossi Madarász
Department of Electrical Engineering, Faculty of Technical and Human Sciences, Sapientia Hungarian University of Transylvania
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Madarász, Róbert Rossi
09 sept. 2017
Acta Universitatis Sapientiae, Electrical and Mechanical Engineering
Édition 8 (2016): Edition 1 (Décembre 2016)
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Publié en ligne:
09 sept. 2017
Pages:
62 - 78
Reçu:
15 févr. 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/auseme-2017-0005
Mots clés
DC magnetron sputtering
,
thin film deposition
,
reactive sputtering
,
macroscopic modelling
© 2016 András Kelemen et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
