Otwarty dostęp

X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co2FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure

Arvind Kumar

Arvind Kumar

  • Department of Physics, Atma Ram Sanatan Dharma College, University of DelhiNew Delhi, India
  • Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Kumar, Arvind
 oraz 
P.C. Srivastava

P.C. Srivastava

Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Srivastava, P.C.
  
06 mar 2019
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co2FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure's Cover Image
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Zacytuj
Pobierz okładkę
Data publikacji: 06 mar 2019
Zakres stron: 116 - 121
Otrzymano: 29 mar 2018
Przyjęty: 25 lip 2018
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0001
Słowa kluczowe
© 2019 Arvind Kumar et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Kumar, Arvind
Department of Physics, Atma Ram Sanatan Dharma College, University of DelhiNew Delhi, India
Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
Srivastava, P.C.
Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Nauka o materiałach, Nauka o materiałach, inne, Nanomateriały, Funkcjonalne i inteligentne materiały, Charakterystyka i właściwości materiałów
Kanał RSS czasopisma