Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 37 (2019): Zeszyt 1 (March 2019)
Otwarty dostęp
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co
2
FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure
Arvind Kumar
Arvind Kumar
oraz
P.C. Srivastava
P.C. Srivastava
| 06 mar 2019
Materials Science-Poland
Tom 37 (2019): Zeszyt 1 (March 2019)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
06 mar 2019
Zakres stron:
116 - 121
Otrzymano:
29 mar 2018
Przyjęty:
25 lip 2018
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2019-0001
Słowa kluczowe
CoFeAl
,
Heusler alloy
,
XPS
,
XRD
,
silicides
© 2019 Arvind Kumar et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.