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X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co2FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure

Arvind Kumar

Arvind Kumar

  • Department of Physics, Atma Ram Sanatan Dharma College, University of DelhiNew Delhi, India
  • Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
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Kumar, Arvind
 et 
P.C. Srivastava

P.C. Srivastava

Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
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Srivastava, P.C.
  
06 mars 2019
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co2FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure's Cover Image
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Publié en ligne: 06 mars 2019
Pages: 116 - 121
Reçu: 29 mars 2018
Accepté: 25 juil. 2018
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0001
Mots clés
© 2019 Arvind Kumar et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Kumar, Arvind
Department of Physics, Atma Ram Sanatan Dharma College, University of DelhiNew Delhi, India
Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
Srivastava, P.C.
Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
Langue:
Anglais
Périodicité:
4 fois par an
Sujets de la revue:
Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux
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