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X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co2FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure

Arvind Kumar

Arvind Kumar

  • Department of Physics, Atma Ram Sanatan Dharma College, University of DelhiNew Delhi, India
  • Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
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Kumar, Arvind
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P.C. Srivastava

P.C. Srivastava

Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
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Srivastava, P.C.
  
06 mar 2019
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co2FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure's Cover Image
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Publicado en línea: 06 mar 2019
Páginas: 116 - 121
Recibido: 29 mar 2018
Aceptado: 25 jul 2018
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0001
Palabras clave
© 2019 Arvind Kumar et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Kumar, Arvind
Department of Physics, Atma Ram Sanatan Dharma College, University of DelhiNew Delhi, India
Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
Srivastava, P.C.
Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
Idioma:
Inglés
Calendario de la edición:
4 veces al año
Temas de la revista:
Ciencia de los materiales, Ciencia de los materiales, otros, Nanomateriales, Materiales funcionales e inteligentes, Características y propiedades de los materiales
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