Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 36 (2018): Zeszyt 4 (December 2018)
Otwarty dostęp
Analysis of surface properties of Ti-Cu-Ox gradient thin films using AFM and XPS investigations
Tomasz Kotwica
Tomasz Kotwica
,
Jaroslaw Domaradzki
Jaroslaw Domaradzki
,
Damian Wojcieszak
Damian Wojcieszak
,
Andrzej Sikora
Andrzej Sikora
,
Malgorzata Kot
Malgorzata Kot
oraz
Dieter Schmeisser
Dieter Schmeisser
| 01 lut 2019
Materials Science-Poland
Tom 36 (2018): Zeszyt 4 (December 2018)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
01 lut 2019
Zakres stron:
761 - 768
Otrzymano:
09 lis 2018
Przyjęty:
30 lis 2018
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2018-0100
Słowa kluczowe
surface
,
gradient distribution
,
thin film oxide
© 2018 Tomasz Kotwica et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Tomasz Kotwica
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Science and Technology
Wroclaw, Poland
Jaroslaw Domaradzki
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Science and Technology
Wroclaw, Poland
Damian Wojcieszak
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Science and Technology
Wroclaw, Poland
Andrzej Sikora
Department of Material Science and Diagnostics, Electrotechnical Institute,
Wroclaw, Poland
Malgorzata Kot
Applied Physics-Sensor Technology, Brandenburg, University of Technology Cottbus-Senftenberg
Cottbus, Germany
Dieter Schmeisser
Applied Physics-Sensor Technology, Brandenburg, University of Technology Cottbus-Senftenberg
Cottbus, Germany