Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 36 (2018): Zeszyt 1 (March 2018)
Otwarty dostęp
Application of radio frequency inductively coupled plasma in chemical vapor deposition process of diamond-like carbon films for modification of properties of deposited films
Wojciech Kijaszek
Wojciech Kijaszek
,
Waldemar Oleszkiewicz
Waldemar Oleszkiewicz
oraz
Zbigniew Znamirowski
Zbigniew Znamirowski
| 18 maj 2018
Materials Science-Poland
Tom 36 (2018): Zeszyt 1 (March 2018)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
18 maj 2018
Zakres stron:
80 - 85
Otrzymano:
03 kwi 2017
Przyjęty:
24 sty 2018
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0119
Słowa kluczowe
diamond-like carbon
,
RF ICP PECVD
,
Raman scattering spectroscopy
,
field emission
© 2018
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.