Otwarty dostęp

Application of radio frequency inductively coupled plasma in chemical vapor deposition process of diamond-like carbon films for modification of properties of deposited films


Zacytuj

eISSN:
2083-134X
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Materials Sciences, other, Nanomaterials, Functional and Smart Materials, Materials Characterization and Properties