Acceso abierto

Application of radio frequency inductively coupled plasma in chemical vapor deposition process of diamond-like carbon films for modification of properties of deposited films


Cite

eISSN:
2083-134X
Idioma:
Inglés
Calendario de la edición:
4 veces al año
Temas de la revista:
Materials Sciences, other, Nanomaterials, Functional and Smart Materials, Materials Characterization and Properties