Accès libre

Application of radio frequency inductively coupled plasma in chemical vapor deposition process of diamond-like carbon films for modification of properties of deposited films

Wojciech Kijaszek

Wojciech Kijaszek

Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wrocław University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372Wrocław, Poland
Recherchez cet auteur sur
Sciendo|Google Scholar
Kijaszek, Wojciech
, 
Waldemar Oleszkiewicz

Waldemar Oleszkiewicz

Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wrocław University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372Wrocław, Poland
Recherchez cet auteur sur
Sciendo|Google Scholar
Oleszkiewicz, Waldemar
 et 
Zbigniew Znamirowski

Zbigniew Znamirowski

Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wrocław University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372Wrocław, Poland
Recherchez cet auteur sur
Sciendo|Google Scholar
Znamirowski, Zbigniew
  
18 mai 2018
Application of radio frequency inductively coupled plasma in chemical vapor deposition process of diamond-like carbon films for modification of properties of deposited films's Cover Image
À propos de cet article
Article précédent
Article suivant
Citez
Télécharger la couverture
Publié en ligne: 18 mai 2018
Pages: 80 - 85
Reçu: 03 avr. 2017
Accepté: 24 janv. 2018
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2017-0119
Mots clés
© 2018
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Langue:
Anglais
Périodicité:
4 fois par an
Sujets de la revue:
Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux
RSS Feed de la revue