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Application of radio frequency inductively coupled plasma in chemical vapor deposition process of diamond-like carbon films for modification of properties of deposited films

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eISSN:
2083-134X
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Materials Sciences, other, Nanomaterials, Functional and Smart Materials, Materials Characterization and Properties