Skip to content
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Usługi biblioteczne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Journal Matcher
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 36 (2018): Zeszyt 1 (Marzec 2018)
Otwarty dostęp
Effect of pulsed magnetron sputtering process for the deposition of thin layers of nickel and nickel oxide
Witold Posadowski
Witold Posadowski
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics,
Wroclaw, Poland
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Posadowski, Witold
,
Artur Wiatrowski
Artur Wiatrowski
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics,
Wroclaw, Poland
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Wiatrowski, Artur
oraz
Grzegorz Kapka
Grzegorz Kapka
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics,
Wroclaw, Poland
Wyszukaj tego autora
Sciendo
|
Google Scholar
Kapka, Grzegorz
18 maj 2018
Materials Science-Poland
Tom 36 (2018): Zeszyt 1 (Marzec 2018)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Pobierz okładkę
Data publikacji:
18 maj 2018
Zakres stron:
69 - 74
Otrzymano:
24 mar 2017
Przyjęty:
11 paź 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0092
Słowa kluczowe
pulsed magnetron sputtering
,
thin film
,
deposition
,
nickel
,
nickel oxide
© 2018
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
