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Effect of pulsed magnetron sputtering process for the deposition of thin layers of nickel and nickel oxide

Witold Posadowski

Witold Posadowski

Faculty of Microsystem Electronics and Photonics,Wroclaw, Poland
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Posadowski, Witold
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Artur Wiatrowski

Artur Wiatrowski

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Grzegorz Kapka

Grzegorz Kapka

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Kapka, Grzegorz
  
18 mag 2018
Effect of pulsed magnetron sputtering process for the deposition of thin layers of nickel and nickel oxide's Cover Image
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Pubblicato online: 18 mag 2018
Pagine: 69 - 74
Ricevuto: 24 mar 2017
Accettato: 11 ott 2017
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2017-0092
Parole chiave
© 2018
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
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