Uneingeschränkter Zugang

Effect of pulsed magnetron sputtering process for the deposition of thin layers of nickel and nickel oxide

Witold Posadowski

Witold Posadowski

Faculty of Microsystem Electronics and Photonics,Wroclaw, Poland
Suche nach diesem Autor auf
Sciendo|Google Scholar
Posadowski, Witold
, 
Artur Wiatrowski

Artur Wiatrowski

Faculty of Microsystem Electronics and Photonics,Wroclaw, Poland
Suche nach diesem Autor auf
Sciendo|Google Scholar
Wiatrowski, Artur
 und 
Grzegorz Kapka

Grzegorz Kapka

Faculty of Microsystem Electronics and Photonics,Wroclaw, Poland
Suche nach diesem Autor auf
Sciendo|Google Scholar
Kapka, Grzegorz
  
18. Mai 2018
Effect of pulsed magnetron sputtering process for the deposition of thin layers of nickel and nickel oxide's Cover Image
Über diesen Artikel
Vorheriger Artikel
Nächster Artikel
Zitieren
COVER HERUNTERLADEN
Online veröffentlicht: 18. Mai 2018
Seitenbereich: 69 - 74
Eingereicht: 24. März 2017
Akzeptiert: 11. Okt. 2017
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2017-0092
Schlüsselwörter
© 2018
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien
Zeitschrift RSS Feed