Otwarty dostęp

UV-Vis studies of 800 keV Ar ion irradiated NiO thin films

P. Mallick

P. Mallick

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Mallick, P.
, 
D.K. Mishra

D.K. Mishra

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Mishra, D.K.
, 
P. Kumar

P. Kumar

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Kumar, P.
 oraz 
D. Kanjilal

D. Kanjilal

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Kanjilal, D.
  
30 sie 2016
UV-Vis studies of 800 keV Ar ion irradiated NiO thin films's Cover Image
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Zacytuj
Pobierz okładkę
Data publikacji: 30 sie 2016
Zakres stron: 555 - 559
Otrzymano: 04 lis 2014
Przyjęty: 19 maj 2015
DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0082
Słowa kluczowe
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Mallick, P.
Mishra, D.K.
Kumar, P.
Kanjilal, D.
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Nauka o materiałach, Nauka o materiałach, inne, Nanomateriały, Funkcjonalne i inteligentne materiały, Charakterystyka i właściwości materiałów
Kanał RSS czasopisma