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Preparation and microstructural characterization of Si(100) Ce1−x GdxO2−δ thin films prepared by pulsed laser deposition technique

P. Nagaraju

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Y. Vijayakumar

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M. Ramana Reddy

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Ramana Reddy, M.
  
19 dic 2014
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Publicado en línea: 19 dic 2014
Páginas: 541 - 546
DOI: https://doi.org/10.2478/s13536-014-0246-5
Palabras clave
© 2014 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Nagaraju, P.
Vijayakumar, Y.
Phase, D.
Reddy, V.
Ramana Reddy, M.
Idioma:
Inglés
Calendario de la edición:
4 veces al año
Temas de la revista:
Ciencia de los materiales, Ciencia de los materiales, otros, Nanomateriales, Materiales funcionales e inteligentes, Características y propiedades de los materiales
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