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Preparation and microstructural characterization of Si(100) Ce1−x GdxO2−δ thin films prepared by pulsed laser deposition technique

P. Nagaraju

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Nagaraju, P.
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Y. Vijayakumar

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Vijayakumar, Y.
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D. Phase

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V. Reddy

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Reddy, V.
 und 
M. Ramana Reddy

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Ramana Reddy, M.
  
19. Dez. 2014
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Online veröffentlicht: 19. Dez. 2014
Seitenbereich: 541 - 546
DOI: https://doi.org/10.2478/s13536-014-0246-5
Schlüsselwörter
© 2014 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Nagaraju, P.
Vijayakumar, Y.
Phase, D.
Reddy, V.
Ramana Reddy, M.
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien
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