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Preparation and microstructural characterization of Si(100) Ce1−x GdxO2−δ thin films prepared by pulsed laser deposition technique

P. Nagaraju

P. Nagaraju

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Nagaraju, P.
, 
Y. Vijayakumar

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Vijayakumar, Y.
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D. Phase

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V. Reddy

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Reddy, V.
 et 
M. Ramana Reddy

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Ramana Reddy, M.
  
19 déc. 2014
Preparation and microstructural characterization of Si(100) Ce1−x GdxO2−δ thin films prepared by pulsed laser deposition technique's Cover Image
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Publié en ligne: 19 déc. 2014
Pages: 541 - 546
DOI: https://doi.org/10.2478/s13536-014-0246-5
Mots clés
© 2014 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Nagaraju, P.
Vijayakumar, Y.
Phase, D.
Reddy, V.
Ramana Reddy, M.
Langue:
Anglais
Périodicité:
4 fois par an
Sujets de la revue:
Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux
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