Otwarty dostęp

Temperature measurement using a Chx/porous silicon/Si structure encapsulated in a CO2 rich environment


Zacytuj

eISSN:
2083-4799
ISSN:
1730-2439
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Materials Sciences, Functional and Smart Materials