Otwarty dostęp

Properties of aluminium oxide thin films deposited in high effective reactive pulsed magnetron sputtering process


Zacytuj

eISSN:
2083-124X
ISSN:
2083-1331
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Materials Sciences, other, Nanomaterials, Functional and Smart Materials, Materials Characterization and Properties