Otwarty dostęp

Properties of aluminium oxide thin films deposited in high effective reactive pulsed magnetron sputtering process

K. Tadaszak

K. Tadaszak

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Tadaszak, K.
, 
K. Nitsch

K. Nitsch

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Nitsch, K.
, 
T. Piasecki

T. Piasecki

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Piasecki, T.
 oraz 
W. Posadowski

W. Posadowski

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Posadowski, W.
  
14 gru 2012
Properties of aluminium oxide thin films deposited in high effective reactive pulsed magnetron sputtering process's Cover Image
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Zacytuj
Pobierz okładkę
Data publikacji: 14 gru 2012
Zakres stron: 323 - 328
DOI: https://doi.org/10.2478/s13536-012-0058-4
Słowa kluczowe
© 2012 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Nauka o materiałach, Nauka o materiałach, inne, Nanomateriały, Funkcjonalne i inteligentne materiały, Charakterystyka i właściwości materiałów
Kanał RSS czasopisma