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Properties of aluminium oxide thin films deposited in high effective reactive pulsed magnetron sputtering process

K. Tadaszak

K. Tadaszak

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Tadaszak, K.
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K. Nitsch

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Nitsch, K.
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T. Piasecki

T. Piasecki

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Piasecki, T.
 et 
W. Posadowski

W. Posadowski

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Posadowski, W.
  
14 déc. 2012
Properties of aluminium oxide thin films deposited in high effective reactive pulsed magnetron sputtering process's Cover Image
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Publié en ligne: 14 déc. 2012
Pages: 323 - 328
DOI: https://doi.org/10.2478/s13536-012-0058-4
Mots clés
© 2012 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Langue:
Anglais
Périodicité:
4 fois par an
Sujets de la revue:
Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux
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