Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 38 (2020): Zeszyt 1 (March 2020)
Otwarty dostęp
Sputtering pressure influenced structural, electrical and optical properties of RF magnetron sputtered MoO
3
films
S. Subbarayudu
S. Subbarayudu
,
K. Venkata Subba Reddy
K. Venkata Subba Reddy
oraz
S. Uthanna
S. Uthanna
| 08 maj 2020
Materials Science-Poland
Tom 38 (2020): Zeszyt 1 (March 2020)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
08 maj 2020
Zakres stron:
41 - 47
Otrzymano:
17 sie 2017
Przyjęty:
23 kwi 2019
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2020-0001
Słowa kluczowe
MoO thin films
,
RF magnetron sputtering
,
sputtering pressure
,
structural properties
,
optical properties
© 2020 S. Subbarayudu et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.