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Sputtering pressure influenced structural, electrical and optical properties of RF magnetron sputtered MoO3 films

S. Subbarayudu

S. Subbarayudu

Department of Physics, S.B.V.R. Degree CollegeIndia
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Subbarayudu, S.
, 
K. Venkata Subba Reddy

K. Venkata Subba Reddy

Department of Physics, S.B.V.R. Degree CollegeIndia
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Reddy, K. Venkata Subba
 und 
S. Uthanna

S. Uthanna

Department of Physics, Sri Venkateswara UniversityTirupati, India
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Uthanna, S.
  
08. Mai 2020
Sputtering pressure influenced structural, electrical and optical properties of RF magnetron sputtered MoO3 films's Cover Image
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Online veröffentlicht: 08. Mai 2020
Seitenbereich: 41 - 47
Eingereicht: 17. Aug. 2017
Akzeptiert: 23. Apr. 2019
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2020-0001
Schlüsselwörter
© 2020 S. Subbarayudu et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien
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