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Materials Science-Poland
Volumen 38 (2020): Edición 1 (March 2020)
Acceso abierto
Sputtering pressure influenced structural, electrical and optical properties of RF magnetron sputtered MoO
3
films
S. Subbarayudu
S. Subbarayudu
,
K. Venkata Subba Reddy
K. Venkata Subba Reddy
y
S. Uthanna
S. Uthanna
| 08 may 2020
Materials Science-Poland
Volumen 38 (2020): Edición 1 (March 2020)
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Publicado en línea:
08 may 2020
Páginas:
41 - 47
Recibido:
17 ago 2017
Aceptado:
23 abr 2019
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2020-0001
Palabras clave
MoO thin films
,
RF magnetron sputtering
,
sputtering pressure
,
structural properties
,
optical properties
© 2020 S. Subbarayudu et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.