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Materials Science-Poland
Volume 37 (2019): Numero 1 (March 2019)
Accesso libero
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co
2
FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure
Arvind Kumar
Arvind Kumar
e
P.C. Srivastava
P.C. Srivastava
| 06 mar 2019
Materials Science-Poland
Volume 37 (2019): Numero 1 (March 2019)
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Pubblicato online:
06 mar 2019
Pagine:
116 - 121
Ricevuto:
29 mar 2018
Accettato:
25 lug 2018
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2019-0001
Parole chiave
CoFeAl
,
Heusler alloy
,
XPS
,
XRD
,
silicides
© 2019 Arvind Kumar et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.