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X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co2FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure

Arvind Kumar

Arvind Kumar

  • Department of Physics, Atma Ram Sanatan Dharma College, University of DelhiNew Delhi, India
  • Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
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Kumar, Arvind
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P.C. Srivastava

P.C. Srivastava

Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
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Srivastava, P.C.
  
06 mar 2019
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co2FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure's Cover Image
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Pubblicato online: 06 mar 2019
Pagine: 116 - 121
Ricevuto: 29 mar 2018
Accettato: 25 lug 2018
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0001
Parole chiave
© 2019 Arvind Kumar et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
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