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X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co2FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure

Arvind Kumar

Arvind Kumar

  • Department of Physics, Atma Ram Sanatan Dharma College, University of DelhiNew Delhi, India
  • Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
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Kumar, Arvind
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P.C. Srivastava

P.C. Srivastava

Department of Physics, Banaras Hindu UniversityVaranasi, India
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Srivastava, P.C.
  
06 mar 2019
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) study of Heusler alloy (Co2FeAl) interfaced with semiconductor (n-Si) structure's Cover Image
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Publicado en línea: 06 mar 2019
Páginas: 116 - 121
Recibido: 29 mar 2018
Aceptado: 25 jul 2018
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0001
Palabras clave
© 2019 Arvind Kumar et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Idioma:
Inglés
Calendario de la edición:
4 veces al año
Temas de la revista:
Ciencia de los materiales, Ciencia de los materiales, otros, Nanomateriales, Materiales funcionales e inteligentes, Características y propiedades de los materiales
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