Otwarty dostęp

Fabrication of nano-patterns of photoresist by ultraviolet lithography and oxygen plasma

E Cheng

E Cheng

  • School of Mechanical Engineering, Hebei University of TechnologyPR China
  • Research Institute for Structure Technology of Advanced Equipment, Hebei University of TechnologyPR China
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Cheng, E
, 
Suzhou Tang

Suzhou Tang

School of Economics and Management, Tianjin University of Science and TechnologyChina
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Tang, Suzhou
, 
Helin Zou

Helin Zou

Key Laboratory for Micro/Nano Technology and Systems of Liaoning Province, Dalian University of TechnologyDalian, China
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Zou, Helin
, 
Zhengyan Zhang

Zhengyan Zhang

School of Mechanical Engineering, Hebei University of TechnologyPR China
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Zhang, Zhengyan
 oraz 
Yao Wang

Yao Wang

  • School of Mechanical Engineering, Hebei University of TechnologyPR China
  • Research Institute for Structure Technology of Advanced Equipment, Hebei University of TechnologyPR China
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Wang, Yao
  
26 lis 2020
Fabrication of nano-patterns of photoresist by ultraviolet lithography and oxygen plasma's Cover Image
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Zacytuj
Pobierz okładkę
Kategoria artykułu: Papers
Data publikacji: 26 lis 2020
Zakres stron: 359 - 364
Otrzymano: 16 wrz 2020
DOI: https://doi.org/10.2478/jee-2020-0049
Słowa kluczowe
© 2020 E Cheng et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
6 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Inżynieria, Wstępy i przeglądy, Inżynieria, inne
Kanał RSS czasopisma